Revista de Nanomedicina y Descubrimiento Bioterapéutico
Acceso abierto

abstracto

Patrones de superficie basados en sol-gel

David Riassetto, Celine Ternon y Michel Langle

La fotolitografía es una técnica bien conocida y de uso frecuente. Sin embargo, esta técnica se utiliza principalmente para el grabado de material a granel o con óxido nativo y, por lo general, requiere un paso de grabado con un ácido o base fuerte. Por estas razones, la fotolitografía no es muy compatible con sustratos sensibles como los de vidrio o plástico. Basados en la ruta sol-gel, formulamos y optimizamos diferentes fotorresistores de óxidos totalmente inorgánicos. Estos fotorresistentes conducen a la litografía de un solo paso (es decir, con un solo paso de deposición) de películas finas de óxidos a escala nanométrica, grabadas con disolvente o ácido diluido. Dicho método es compatible con la formación de rejillas en el rango del milímetro al tamaño submicrométrico en superficies bastante grandes sobre sustratos de vidrio o plástico. Nuestros fotoprotectores se fabricaron integrando un compuesto quelante fotosensible a un ???clásico??? sol-gel óxido sol. Estos fotoprotectores se pueden depositar mediante spincoating sobre varios sustratos, luego se aíslan a través de una máscara y se lavan/graban selectivamente. Por un lado, se investigó la fotorresistencia de TiO2 para la funcionalización de superficies con un contraste de humectabilidad espacial. Por otro lado, se estudió la fotorresistencia de ZnO para el crecimiento localizado de nanocables de ZnO. El principio de síntesis se presentará en la conferencia. Se presentarán las propiedades fisicoquímicas y morfológicas de las superficies obtenidas, vinculadas a los parámetros del proceso. Además, se mostrarán aplicaciones potenciales