Revista Internacional de Avances en Tecnología
Acceso abierto
ISSN: 0976-4860
ISSN: 0976-4860
Dushyant Gupta
La implantación de iones de inmersión en plasma (PIII) es una tecnología de proceso versátil con sus amplias aplicaciones en ingeniería de materiales y procesamiento de microelectrónica. Este documento revisa primero, un breve aspecto histórico de la implantación de iones convencional y la implantación de iones de inmersión de plasma, seguido de su comparación. Luego se discute el mecanismo básico de una técnica PIII y la física de la dinámica de la vaina desarrollada en tal sistema junto con las especificaciones de plasma necesarias en un proceso PIII. Finalmente, se discuten los componentes principales de un sistema PIII, las tendencias existentes y las perspectivas futuras de esta prometedora técnica de proceso.