Revista de química física y biofísica
Acceso abierto

abstracto

Correlación entre la concentración de oxidante y las propiedades morfológicas de los nanocables de silicio obtenidos mediante grabado sin corriente asistido por plata

Besma Moumni* y Abdelkader Ben Jaballah

En este trabajo, se muestra una correlación entre la concentración de oxidante y los cambios morfológicos de los nanocables de silicio formados por un grabado sin corriente con ayuda de plata en dos pasos se establece el método. Revela que aparece una superficie de silicona texturizada para muestras grabadas con una concentración de H2O2 relativamente inferior al 2%. Sin embargo, la dinámica y la cinética de los nanocables de silicio para diferentes concentraciones de H2O2 (5%, 7% y 8%) se estudian mediante microscopía electrónica de barrido. Descubrimos que el grosor de los nanocables de silicio grabados en función del tiempo sigue una ley lineal. La longitud de los nanocables de silicio no solo depende de la concentración de H2O2, sino que es fundamental para superar la saturación de la longitud. Probamos también que la tasa de oxidación de las partículas de Ag que se enfrentan al silicio puede limitar la dinámica de formación del alambre, debido a la generación de iones de hexafluoruro de silicio (SiF6)2-.